製品案内・分析装置
i-GONIO
独立行政法人 産業技術総合研究所との共同研究により、超高真空中での分析において試料の低温化と三次元角度制御の両立を目指し、新たな「UHV 高精度冷却試料三次元角度制御ステージ」を開発しました。
試料の低温化と三次元角度制御の両立が可能であることを立証し、開発を進めることにより完成しました。
i-GONIO が、研究開発のスピードアップと今後より複雑となって行くであろう最先端の理化学分野において、重要なパートナーとしてきっとお役に立つでしょう。
共通仕様
冷却方式LHe フロー方式
ヒーター低温コントロールヒーター内蔵
対磁性完全非磁性
バイアス印加サファイヤフローティング(オプション)
全シリーズがサンプルトランスファー対応
  • O 軸Type
特徴
◆ 多様なサンプルホルダー形状に対応可能
◆ 導入内径φ58mm のコンパクト設計
◆ 複数個のサンプルホルダーに対応

仕様
ステージ構成 固定2 段ステージ(ステージ段数選択可能)
冷却到達温度 7K(2 段ステージ構成/ フローティング有)
輻射シールド 開閉式シールド
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  • リアルシャフト1or2 段チルトステージType
特徴
◆ チルト型ステージで最高の到達冷却能力
◆ 固定/ チルト複合型ステージが可能

仕様
ステージ構成 チルト回転(2 段ステージの場合は上段が固定
冷却到達温度 チルトステージ 10K(2 段ステージ構成)
固定ステージ  7K
チルト範囲 -5°〜 60°
角度分解能 0.05°(片押し時)
輻射シールド 開閉式シールド
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  • リアルシャフト 面内回転Type
特徴
◆ 面内回転型ステージで最高の到達冷却能力と角度分解能

仕様
ステージ構成 面内回転
冷却到達温度 9K
面内範囲 ±90°
角度分解能 0.1°(片押し時)
輻射シールド 固定シールド
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  • バーチャルシャフト1 軸Type
特徴
◆ 左右対称設計のため、トランスファー方向光入射方向が自由

仕様
ステージ構成 チルト回転
冷却到達温度 12K
チルト範囲 -5°〜 60°
角度分解能 0.05°(片押し時)
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  • バーチャルシャフト2 軸Type
特徴
◆ X/Y/Z/θステージとの組み合わせにより6軸タイプマニピュレーターに対応

仕様
ステージ構成 チルト回転/ 面内回転
冷却到達温度 12K
チルト範囲 -5°〜 60°
面内範囲 ±90°
チルト角度分解能 0.05°(片押し時)
面内角度分解能 0.2° ( 片押し時)
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